Rockwell Pavilion8 簡介
發(fā)展歷程
More self-service ML to come
Pavilion8 發(fā)展規(guī)劃
Pavilion8 先進(jìn)控制系統(tǒng)介紹
世界領(lǐng)先的基于模型的軟件產(chǎn)品以提高客戶的效益
1991年面世
- 承諾技術(shù)創(chuàng)新
- 2007年加入Rockwell
- 行業(yè)專家以及在模型開發(fā)、先進(jìn)控制和實時優(yōu)化方面的160+ 專利技術(shù)
- 增加效益
- 提高產(chǎn)量
- 降低制造成本
- 改進(jìn)產(chǎn)品質(zhì)量
- 降低環(huán)境風(fēng)險
- 降低操作負(fù)荷
羅克韋爾 MPC軟件 Pavilion8 特點
Rockwell 先進(jìn)控制產(chǎn)品
Rockwell MPC 的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)
模型技術(shù)VOA
生產(chǎn)過程中的挑戰(zhàn)
數(shù)據(jù)集成與控制、主要技術(shù)手段
APC怎樣優(yōu)化操作過程?
- 建立在常規(guī)控制之上的控制
- 包含操作員經(jīng)驗，過程機理模型，經(jīng)驗?zāi)Ｐ秃蛯崟r過程數(shù)據(jù)
- 持續(xù)推動過程實現(xiàn)預(yù)定的商業(yè)目標(biāo)
- 預(yù)測未來變化，并預(yù)先制定控制步驟
Model Predictive Control-MPC 模型預(yù)測控制?
MPC 解決方案的價值
Pavilion應(yīng)用行業(yè)和案例
